NICTは、2012年1月から、保有する研究開発施設等の一部を、研究開発を行うことを目的として、申請書による簡易な手続きにより研究機関（国、地方自治体、大学、企業等）が有償でご利用いただける制度「施設等供用制度」（※）を運用しております。
このたび、「フォトニックデバイスラボ クリーンルーム」（図1）を本制度の対象といたしました。
図1 フォトニックデバイスラボ クリーンルーム
「フォトニックデバイスラボ クリーンルーム」では、空気清浄度クラス10,000及びクラス100のクリーンルーム環境の中に様々なプロセス装置が設置されています。基板上に所望のパターンニングを行う露光関連装置（図2）、基板材料の加工を行うドライエッチング装置や誘電体絶縁膜の形成を行うCVD装置、電極作製のための電子ビーム蒸着装置（図3）など、高速大容量光通信システムの構築に向けた半導体レーザや光変調器などの光デバイスを一通り試作することが可能な設備が揃っています。なお、安全に利用していただくため、事前に本クリーンルーム利用に関する講習を受講していただく必要があります。
図2 ドラフトチャンバー
図3 電子ビーム蒸着装置
当施設の利用を希望される研究機関の方は、以下までお問い合わせください。
［社会還元促進部門 研究開発支援室］
E-mail: 
Tel: 042-327-5860
※施設等供用制度の詳細については、以下のWebページをご覧ください。
https://www.nict.go.jp/collaboration/research/kyouyou/index.html
当機構では、情報通信技術の研究開発推進のため、優秀で意欲のある研究者を年齢を問わず広く公募いたします。
国内はもとより外国籍の方も、また性別を問わず男性・女性とも積極的に採用を行っております。
採用時期●平成26年4月１日（火） （原則、応相談）
募集人員●パーマネント研究職 若干名
応募締切日●平成25年10月31日（木）必着（厳守）
詳細は、当機構ホームページの採用情報（パーマネント研究職員公募）をご覧ください
URL: http://www.nict.go.jp/employment/permanent/2013perm-kenkyu.html
問合せ先●E-mail: 
Tel: 042-327-7304
