わたくしたちは、最先端のデバイス研究開発においても地球規模の環境を視野に入れて行うことが最重要課題の一つであると認識し、ラボ施設の維持管理にあたっては環境保全に最大限配慮します。

このため、先端ICTデバイスラボでは、ラボ施設の維持管理において、環境マネジメントシステムの国際規格であるISO14001に準拠した環境マネジメントシステムの構築と改善を進め、平成18年7月よりISO14001認証（審査登録）の取得に向けた活動を開始し、平成19年2月に（財）日本規格協会の審査を受けた結果、登録（フォトニックデバイスラボ）されました。その後、ミリ波デバイス技術のラボを統合して先端ICTデバイスラボとして更新審査を受け、登録されました。

実験室には、「クリンルーム」と「測定室」とがあります。

クリンルームには各種のプロセス用装置を配置してあり、結晶基板上へのエピ成長から、誘電体・金属薄膜の成膜、微細パターン形成、ドライエッチング加工など様々なプロセスの実験が可能です。

クリンルームには共通ユーティリティとして、超純水、循環冷却水、窒素ガス、液化窒素、高圧空気などが供給されており、プロセス装置の24時間運転を可能にしています。

(左)廃液処理設備／液化窒素CE設備(右)

また、廃液の回収処理設備、プロセス排ガス除害設備、ガス漏洩検知警報システム、複数のカメラによる映像監視システムなどの設備により、環境・安全対策を図っています。

クリンルームには各種のプロセス用装置を配置してあり、半導体基板上への各種薄膜成長から、誘電体・金属薄膜の成膜、微細パターン形成、ドライエッチング加工など様々なプロセスの実験が可能です。

設置装置・・・メタルスパッタ装置、電子ビーム露光装置、マスクアライナー、ドライエッチング装置、ランプ加熱装置、表面微細形状計測装置、各種ドラフタ、レジスト塗布装置、純水供給設備など

基板加工室では、ダイシング、バックグライディング、ウェハ洗浄などの後工程プロセス装置が利用できます（上図）。

なお、テープマウンタ、エキスパンダー、UV照射器、ブレーカーは203評価室に設置しています（下図）。

分析室では、デバイスへの電極形成のための真空蒸着装置やPL測定やX線回折などの種々のプロセス装置・評価機器が利用できます。

評価室では、ネットワークアナライザなどによりSパラメータ測定などデバイス特性評価を行うための種々の高周波計測機器が利用できます。